产品价格:10万 元(人民币) 上架日期:2014年8月15日 产地:山东青岛 发货地:山东青岛 (发货期:当天内发货) 供应数量:不限 最少起订:1台 浏览量:40 暂无相关下载 其他资料下载:
简要说明:
扩散炉主要满足半导体电力电子器件、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。 扩散炉技术指标: t可处理硅片尺寸:212英寸 t外型形式:卧式14管结构 t工作温度:200℃1300℃ t恒温区长度及精度:200mm1100mm≤±0.5℃ t单点温度稳定性、重复性: ≤±1℃/24h t温度斜变: 可控升温速率15℃/min t可控降温速率: 5℃/min t送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆式推拉舟 t气路系统:15路工艺气体/管 t气体控制:全自动MFC t控制方式:工控机、触摸屏